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江苏体彩网官方-EUV遭受新挫折半导体10nm工艺步伐蹉跎


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江苏体彩网:作者:大规模生产的EUV光刻机生产的马空编译器ASML在TSMC的初始测试中经常被污染。这一消息是TSMC在2014年加州圣何塞举行的先进设备光刻技术会议上的讲话中透露的。EUV光源的激光机械部分经常出现错位,导致光源出现裂纹。

因此,EUV光刻机被关闭。TSMC下一代光刻部门经理杰克陈证实,只有激光器的机械部分出现了故障。ASML/西默计划迅速解决这个问题。

据陈介绍,还是有期待的。虽然EUV光刻经常有问题,但TSMC计划在10纳米节点使用EUV。

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最近,EUV光刻机经常暴露出一系列问题。一些专家指出,TSMC工厂频繁出现的光源故障对EUV来说是切实可行的,特别是对大规模生产EUV光刻机的未来客户来说,这种情况不会被混淆,可能会持续一段时间。

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目前,EUV光刻机的问题主要集中在光源上,但是还有很多问题需要解决,比如EUV掩膜和光刻胶。光源问题ASML第一代量产EUV光刻机NXE;3300B最近被运往TSMC。英特尔、三星等客户未来也将在今年获得设备。这种EUV光刻机的数值孔径(NA)为0.33,4倍缩放,分辨率为22nm(半节距)。

运往TSMC的NXE3300B配备了ASML/Cymer 30w EUV光源。根据TSMC的不同意见,原试运行计划在1月31日前进行,但激光器的机械部分经常出现故障,导致设备停机。设备直到2月24日才能关闭。

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这种光源是由Cymer公司开发的,该公司最近被ASML吞并。|江苏体彩网。

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